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表面处理工艺
发表时间:2020-11-23 点击次数:

表面处理工艺简介

表面处理工艺可实现样品表面无机物杂质和光刻胶的去除、有机材料的微观灰化、有机物及塑料品的表面处理等。


等离子体灰化仪

设备简介:

    英国Quorum公司的等离子体灰化仪,采用微处理器控制,全自动操作,程序控制。工作气体采用双气体流量控制方式,工作气体可以选用O2、Ar、CF4O2与Ar的混合气体,可用于样品表面无机物杂质和光刻胶的去除、有机材料的微观灰化、有机物及塑料品的表面处理等。真空腔室为圆柱形,包括两个半圆形电极,样品装载为抽屉式抽拉系统,方便使用。设备具有低温工作、易操作、装卸样品方便等优点。

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技术参数:

    腔室尺寸:直径110mm,长度160mm

    射频功率:0~100W

    工艺压力:0.4~1.0mbar

    计时方式:数字计时



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